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IS-POLISHER精密小型試樣研磨機ISPP-1000的特長介紹

更新時間:2024-06-28      瀏覽次數(shù):111


日本IS-POLISHER精密小型試樣研磨機ISPP-1000的特長介紹

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ISPP-1000是以研磨較小的試樣為目的而開發(fā)的,擅長于以電子顯微鏡為首的各種分析分析用的試樣研磨。


特長

CP用試樣的預處理研磨


直接安裝橫截面拋光機離子銑削用的試料載置臺,備有可輕松形成研磨面直角的專用試料支架!


僅用ISPP就能給出EBSD的晶體取向面

通過研磨時間、研磨壓、速度、擺動動作的設定、獨的創(chuàng)的試樣保持、研磨量調(diào)整機構,可以進行對組織結構損傷較少的研磨。 

另外,通過使用可選的配重消除器,可以進一步減輕試樣的負擔,將損傷抑制在最小限度。

輕松實現(xiàn)高放大率的傾斜研磨

在ISPP中,通過在試料支架上安裝可選的萬向調(diào)整器,可以通過2個微型單元在各個方向上最多調(diào)整6度,在整個圓周方向上調(diào)整

傾斜角。 微分辨率相當于每存儲器0.02度。 為了得到高放大率的淺傾斜角也可以高精度地設定。

半導體截面樣品制作又快又漂亮

備有可以直接夾緊器件的結構的試料支架。 由此,不需要包埋處理的時間,可以實現(xiàn)壓倒性的分析TAT縮短。


規(guī)格選項

尺寸框體部
( w ) 205毫米×( d ) 225毫米×( h ) 155毫米
10公斤
設置空間( w ) 335mm×(D ) 260mm×(H ) 330mm
除了突起部
磨盤φ110mm
電源AC100~240V
50/60Hz
65W(max )

系統(tǒng)結構

主體套件研磨機主體倒立光顯微鏡
(物鏡10倍/目鏡20倍)
廢液罐
1個研磨盤
交流適配器
刀柄組件金屬材料用擺臂、配重塊
平面用支架、標準支架
半導體電子部件用擺臂、配重塊
集成電路支架、標準支架*1
選項物鏡4倍、20倍
目鏡16倍、10倍*2
顯微鏡用照相機單元PC用USB輸出型
粗微動
千分尺
最小分辨率1μm
磨盤SUS440C HRC55

消耗品

磨料耐水紙型600#、800#、1200#、1500#
膠片類型D AO SC 1μm、3μm、5μm、9μm
磨光型絨面革墊、尼龍墊(織布)
鉆石輪電沉積/400#、800#
樹脂/600#、800#
金剛石漿料0.5μm、1μm、3μm (噴射式)
膠體二氧化硅各種


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