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關(guān)于光譜干涉式晶圓測(cè)厚儀SF-3的特征及用法
2023-04-14 產(chǎn)品中心/ products
您的位置：首頁(yè) - 產(chǎn)品中心 - 儀表，電子設(shè)備 - otsukael - SLS-6500HLotsukael靜態(tài)光散射光度計(jì) 照度計(jì) 紫外光譜儀
otsukael靜態(tài)光散射光度計(jì) 照度計(jì)SLS-6500HL的介紹絕對(duì)分子量、慣性半徑和第二維里系數(shù)可以使用靜態(tài)光散射法測(cè)量。可以進(jìn)行 Zimm plot、Berry plot、Zimm square root plot、單一濃度法 plot、Debye plot 等各種分析。確定膠束的總數(shù)。可選的棒狀樣品池支架可對(duì)光纖材料（散裝）進(jìn)行絕對(duì)散射強(qiáng)度測(cè)量。
產(chǎn)品型號(hào)：SLS-6500HL廠商性質(zhì)：經(jīng)銷(xiāo)商更新時(shí)間：2023-04-14訪 問(wèn) 量：545
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otsukael靜態(tài)光散射光度計(jì) 照度計(jì)SLS-6500HL的介紹
otsukael靜態(tài)光散射光度計(jì) 照度計(jì)SLS-6500HL的介紹
絕對(duì)分子量、慣性半徑和第二維里系數(shù)可以使用靜態(tài)光散射法測(cè)量。
可以進(jìn)行 Zimm plot、Berry plot、Zimm square root plot、單一濃度法 plot、Debye plot 等各種分析。
可選的棒狀樣品池支架可對(duì)光纖材料（散裝）進(jìn)行絕對(duì)散射強(qiáng)度測(cè)量。
膜厚測(cè)量范圍 1 nm 至 92 μm（SiO 2換算）
薄膜厚度值的高重復(fù)性
每點(diǎn)1秒以?xún)?nèi)的高速測(cè)量
圖案可瞄準(zhǔn)微小點(diǎn)（最小Φ3μm）
適用于圖案化晶圓的膜厚測(cè)繪
可以獲取用于圖案對(duì)齊的圖像
除了可以進(jìn)行高精度薄膜分析的分光橢圓偏光法外，它還通過(guò)實(shí)現(xiàn)自動(dòng)可變測(cè)量角度機(jī)構(gòu)來(lái)兼容所有類(lèi)型的薄膜。除了傳統(tǒng)的旋轉(zhuǎn)分析器方法外，還通過(guò)為延遲板提供自動(dòng)安裝/拆卸機(jī)構(gòu)提高了測(cè)量精度。 |
可在紫外-可見(jiàn)（300 至 800 nm）波長(zhǎng)范圍內(nèi)測(cè)量橢圓參數(shù)
能夠分析納米級(jí)多層薄膜的膜厚
通過(guò) 400 通道或更多通道的多通道光譜快速測(cè)量橢圓光譜
支持通過(guò)可變反射角測(cè)量對(duì)薄膜進(jìn)行詳細(xì)分析
通過(guò)創(chuàng)建光學(xué)常數(shù)數(shù)據(jù)庫(kù)和添加配方注冊(cè)功能提高可操作性
橢圓參數(shù)（tanψ，cosΔ）測(cè)量
光學(xué)常數(shù)（n：折射率，k：消光系數(shù)）分析
膜厚分析
半導(dǎo)體ウェーハ
ゲート酸化薄膜，窒化膜
SiO2，SixOy，SiN，SiON，SiNx，Al2O3，SiNxOy，poly-Si，ZnSe， BPSG，TiN
レジストの光學(xué)定數(shù)(波長(zhǎng)分散)
化合物半導(dǎo)體
AlxGa(1-x)As 多層膜，アモルファスシリコン
FPD
配向膜
各種新素材
DLC(Diamond Like Carbon)，超伝導(dǎo)用薄膜，磁気ヘッド薄膜
光學(xué)薄膜
TiO2，SiO2，反射防止膜
リソグラフィー分野
g線(436nm)，h線(405nm)，i線(365nm)などの各波長(zhǎng)におけるn，k評(píng)価
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