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himax紫外線照射裝置 UV燈 汞燈UH102 & UH104的介紹光纖激光焊接機LF系列擁有高精度控制。 非常適合切割、焊接小零件和需要金屬熔透的焊接。
產(chǎn)品型號：UH102 & UH104廠商性質(zhì)：經(jīng)銷商更新時間：2023-04-18訪 問 量：502
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himax紫外線照射裝置 UV燈 汞燈UH102 & UH104的介紹
himax紫外線照射裝置 UV燈 汞燈UH102 & UH104的介紹
該設備去除有機化合物污漬，主要是油性污染物。
濕式清潔去除灰塵和污垢后，使用本設備作為畫龍點睛，
清潔效果更佳。
環(huán)保，環(huán)保清潔劑
144AX 型從平面汞燈發(fā)出紫外線。
該照射能量和產(chǎn)生的臭氧用于分解和氧化有機化合物以去除污垢。
它不會因熱量或摩擦而損壞工作表面，并有效清潔。無需擔心污垢和灰塵的再沉積，或有機化合物的污染。
比濕洗具有更高的去污力
該設備擁有比濕式清潔更有效的清潔能力。（*參照下級處理條件表。）
如果在用超純水沖洗前加上輕微清潔，可以去除油基污染膜，也可以通過沖洗去除細小的附著灰塵。
【什么是接觸角？]
將試劑水滴在清潔過的表面上并評估濕度。在紫外線照射約 30 至 60 秒后，接觸角顯著下降。
4度的接觸角意味著有機化合物膜小于單個分子。
除了半導體領域，它還可以應用于各種清潔應用。
■ 可用于電子材料、液晶、汽車、家電、ETC等。
■ 陶瓷基板、液晶玻璃、陰極射線管、磁頭、鉻膜等的附著力提高和表面改性。
■ 硅片、 GaSa晶圓、透鏡、鏡子、太陽 電池面板等的
清洗、密合性的提高 ■ 切割膠帶密合性的降低（*部分類型的密合性得到改善。）
■ 抗蝕劑硬化、結(jié)冰、殘留物去除的促進
■ FPD/PDP的清掃
■ 增加wafer氧化層
■ EPROM和存儲器的中和
■ 各種材料的清洗、附著力改善、氧化增強、固化等■ 生化
滅菌等
可選功能
■ Suprasil UV Lamp（合成石英玻璃紫外燈）
短片的透過率波長184.9nm的紫外線對于標準燈來說是65%，但是這款燈
將90%的臭氧產(chǎn)生率提高了一倍，并且縮短了清洗時間。
■ 臭氧消除裝置適用于希望避免排氣管排放臭氧的人員（
與排氣裝置組合使用）。
與臭氧消除器組合使用時，無需擔心臭氧氣味。
■ 多種托盤尺寸可供選擇。（單位：mm）（參考下方托盤尺寸表。）
■ 紫外線照度計輸入：AC100V 12A
| 加工條件 | 接觸角 |
| 未經(jīng)處理的玻璃板 | 26 |
| 洗滌劑→自來水→碳氫溶劑 | 39 |
| 洗滌劑→自來水→純凈水 | 17 |
| 洗滌劑 → 自來水 → IPA * | 14 |
| 臭氧水 | 10度以下 |
| 洗滌劑→自來水→等離子 | 五 |
| 洗滌劑 → 自來水 → UVO 清潔劑 | 四 |
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